
三星电子半导体部门因AI需求加快扩产,先进逻辑与存储产能双线推进
一、扩产背景
4月6日消息,三星电子半导体部门响应AI热潮对先进逻辑与存储半导体产能的需求,正加快扩产步伐。
二、逻辑芯片:美国泰勒2nm厂进入试运营
- 地点:美国得克萨斯州泰勒市2nm晶圆厂
- 进度:已进入试运营阶段,EUV光刻机测试启动,蚀刻和沉积流程的主要设备分阶段导入。
- 目标:今年内实现初步运营,2027年全面投产。
三、存储芯片:韩国平泽P4晶圆厂集群新增设备订单
- 时间:3月末,三星为平泽P4晶圆厂集群最后两个阶段(PH2和PH4)下达大宗前端设备订单。
- 生产内容:两阶段将生产支持HBM4、HBM4E乃至HBM5的1c nm DRAM Die。
四、平泽P4各阶段详细进度
- PH1:已完成投资。
- PH3:设备安装基本完成,年内计划实现13~14K WPM(晶圆片每月投片量)。
- PH4:进度稍快,计划2024年5~6月启动设备导入。
- PH2:洁净室建设已启动,11月启动装机,2027年2月完成。
五、核心目标
通过扩大先进逻辑(2nm)和存储(HBM支持的1c nm DRAM)产能,满足AI算力增长对高带宽内存及先进制程芯片的需求。
(信息来源:综合韩媒edaily、ZDNET Korea报道,2024年4月6日)
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